Maurizio Galetto

• Uso della UNI CEI 9 per la pianificazione delle misure con le Macchine di Misura a Coordinate
  Book chapter
  

  Barbato, G.; Galetto, Maurizio
  Sperimentare per la Qualità
  Franco Angeli (ITALIA)
  (pp.165-180) ISBN:9788846418524

• ASPETTI E PROBLEMATICHE CONNESSI CON L’ATTIVAZIONE DI UN SISTEMA QUALITÀ IN UN LABORATORIO DI PROVA UNIVERSITARIO
  Proceeding
  

  Barbato, Giulio; Franceschini, Fiorenzo; Galetto, Maurizio
  In: Titolo volume non avvalorato
  1° CONGRESSO METROLOGIA & QUALITÀ METROLOGIA & QUALITÀ – XVIII° CONGRESSO SIT
  (pp.496-503)

• L’uso efficiente della UNI CEI 9. Attività di misura nei Sistemi Qualità
  Article
  

  Barbato, Giulio; Galetto, Maurizio
  MECCANICA & MACCHINE DI QUALITÀ
  Vol.6 (pp.32-40)

• L'uso efficiente della UNI CEI 9 per l'organizzazione delle attività di misura nei sistemi qualità
  Article
  

  Barbato, Giulio; Galetto, Maurizio
  DE QUALITATE
  ISSN:1123-3249

• Tecniche per la gestione della qualità
  Book
  

  Barbato, Giulio; Franceschini, Fiorenzo; Galetto, Maurizio; Levi, Raffaello
  Pitagora Editrice (ITALIA)
  ISBN:9788837111038

• Influence of the indenter shape in Rockwell Hardness Test
  Proceeding
  

  Barbato, G; Galetto, Maurizio; Germak, A; Mazzoleni, F.
  In: Proceedings
  International Symposium on Advances in Hardness Measurement - HARDMEKO 98 September 21-23
  (pp.53-60) ISBN:9787506617222

• INFLUENCE OF THE INDENTER SHAPE IN ROCKWELL HARDNESS TEST
  Article
  

  Barbato, G.; Galetto, Maurizio; Germak, A.; Mazzoleni, F.
  MASINSTVO
  Vol.2 (pp.183-192) ISSN:1512-5173

• Priorità al rischio dei modi di guasto - Metodologia FMEA
  Article
  

  Franceschini, Fiorenzo; Galetto, Maurizio
  AUTOMAZIONE E STRUMENTAZIONE
  Vol.2 (pp.93-96) ISSN:0005-1284

• Valutazione delle priorità al rischio dei modi di guasto nella metodologia FMEA
  Article
  

  Franceschini, Fiorenzo; Galetto, Maurizio
  AUTOMAZIONE E STRUMENTAZIONE
  Vol.XLVI, n.2 (pp.93-96) ISSN:0005-1284

• Hot-wire CVD: a one-step process to obtain thin film polycrystalline silicon at a low temperature on cheap substrates
  Proceeding
  

  Rath, J. K.; Galetto, Maurizio; VAN DER WERF, C. H. M.; Feenstra, K. F.; Meiling, H; VAN CLEEF, M. W. M.; Schropp, R. E. I.
  In: Techn. Digest of the Int. PVSEC-9
  Int. PVSEC-9 November 11-15
  

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